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产品简介
MS-700磁控溅射设备是一款具有多功能、多阴极的磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度的特点。可根据需求配置4inch以下的圆形阴极，可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。适用于研发和生产需要多靶溅射的中高精度的工艺需求。
性能参数
晶圆尺寸 | 4inch-6inch |
镀膜均匀性 | 优于±2% |
极限真空 | 优于5×10-10mbar（金属密封） 优于5×10-9mbar（胶圈密封） |
温控 | RT-800℃，可选**1200℃ |
阴极数量 | 12个2inch 或 6个4inch，共焦溅射 |
电源 | DC、RF、DC Pulse |
沉积精度 | 0.1nm |
占地面积 | 4m L*3m W*2.5m H |
可选 | 低温泵、垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚仪、RGA、工艺菜单等 |
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