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科研级磁控溅射设备—MS-400
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参考报价:
面议
品牌:
致真精密
关注度:
431
样本:
暂无
型号:
科研级磁控溅射设备—MS-400
产地:
安徽
信息完整度:
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暂无
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高级会员 第 1
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产品简介

MS-400磁控溅射设备是一款多功能多靶磁控溅射系统,具有超高真空,单原子层沉积精度,设备维护简单的特点。MS-400系统标配6个2inch共焦超高真空阴极,满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求,维护简单,运行稳定。

性能参数

晶圆尺寸

4inch向下兼容

镀膜均匀性

优于±2%

极限真空

优于1×10-9mbar(金属密封)

优于1×10-8mbar(胶圈密封)

温控

RT-800℃,可选**1200℃

阴极数量

6~7个2inch,共焦溅射

客户案例1

通过本MS-400科研级磁控溅射,制备了具有强PMA的Mo基结构的单自由层和双自由层MTJ磁隧道结薄膜。


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